濕電子化學品
公司通過科技創(chuàng)新，自主研發(fā)生產(chǎn)超凈高純濕電子化學品全產(chǎn)品，主要應用于面板、半導體、光伏、新能源等領域。產(chǎn)品包括電子級稀釋劑、電子級剝離液、電子級NMP、鋁蝕刻液、銅蝕刻液和顯影液等，質量達到國內國際先進水平。
| 蝕刻液 |
| 種 類： | 鋁蝕刻液/ITO蝕刻液/銅蝕刻液 |
| 常用成分： | 三氯化鈉、醋酸、鹽酸、硝酸、雙氧水 |
| 作 用： | 除去已顯影的固體物質 |
| 工藝位置： | 顯影后 |
| 剝離液 |
| 種 類： |
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| 常用成分： | 氫氧化鉀、有機試劑（DMSO、MEA） |
| 作 用： | 剝離未顯影的光刻膠 |
| 工藝位置： | 蝕刻后 |
| 清洗劑 |
| 種 類： |
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| 常用成分： | 丙酮、異丙醇、無機清洗劑等 |
| 作 用： | 清洗表面沾污、雜質 |
| 工藝位置： | 工藝多流程 |
| 顯影液 |
| 種 類： |
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| 常用成分： | 四甲基氫氧化銨、氫氧化鉀、氫氧化鈉 |
| 作 用： | 洗去光刻膠 |
| 工藝位置： | 光刻后 |
| 拋光液 |
| 種 類： |
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| 常用成分： | 硫酸、硝酸、硫酸銅、雙氧水等 |
| 作 用： | 增強基底平整度 |
| 工藝位置： | 拋光后 |
